Wir haben 6-Zoll-CVD-Diamant-Blank eingeführt, der die Hochleistungs-915-MHz-Mikrowellen-Plasma-Technologie für chemische Gasphase abscheidung (MPCVD) verwendet. Dieser Prozess ionisiert kohlenstoff haltige Gase (wie Methan) und Wasserstoff durch Mikrowellen und ermöglicht die Ablagerung von Kohlenstoff ionen auf Substraten wie Diamant-, Silizium-oder Molybdän platten. Dies führt zu einem homo epi taktischen oder hetero epi taktischen Wachstum von hochreinen einkristall-oder großflächigen poly kristallinen Diamant filmen.
Durch unsere proprietäre digitale Steuerungs software können wir die Wachstums bedingungen von Diamant präzise quantifizieren und anpassen, um die skalierbare Herstellung von einkristall oder poly kristallinen Diamanten mit verschiedenen Spezifikationen und Parametern zu ermöglichen.
Unsere Vorteile:
Höhere Wärme leitfähig keit & minimale Kontamination: Unser Prozess minimiert die Kontamination quellen in der Kammer, was zu einer geringeren Metall kontamination, einer höheren Reinheit und einer gleichmäßigen Oberflächen granularität führt. Die Wärme leitfähig keit unseres Diamanten übertrifft die anderer Herstellungs methoden.
Höhere Produktions effizienz: Die Leistung pro Einheit unserer 915-MHz-Ausrüstung ist 3-4 mal so hoch wie bei herkömmlichen 2,45-GHz-Systemen. Ermöglichen einer kosten günstigen Anpassung an nach geschaltete Anwendungen und Senkung der Gesamt herstellungs kosten von diamant basierten Geräten.
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